ITO薄膜相关论文
透明导电氧化物（Transparent conducting oxides, TCOs）是一种重掺杂的半导体材料，在液晶显示屏、触摸屏、太阳能电池等领域都有广泛......
氧化铟锡（ITO）薄膜作为硅基异质结太阳电池（HJT）的窗口层,起着光生载流子的收集、横向运输以及减反射层的功能。ITO薄膜的光电性能是影......
利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡（ITO）透明导电薄膜，在室温条件下，研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量......
透明导电氧化物（transparent conductive oxide,简称TCO）薄膜在液晶显示器、太阳能电池、气体传感器等许多领域都有重要的应用。目前......
透明导电氧化物薄膜（TCO）因其透光导电性能而广泛应用于电子信息、微波屏蔽等日常生活和国防科技等领域。其中锡掺杂氧化铟（ITO）薄膜因......
a-Si:H/c-Si异质结太阳电池（HAC）因高效、工艺简单、温度系数低等优势,在光伏电力领域前景广阔。氧化铟锡（ITO）薄膜作为HAC太阳电池的......
随着物联网和5G时代的到来,移动终端向着超薄化和多功能化的方向发展。因此,对天线性能的要求越来越高,但是留给天线的设计空间却......
在预处理室中对ITO薄膜进行等离子体处理,研究分别在氧气、氮气、氨气及空气四种工作气体下,等离子体处理压强和处理时间对薄膜的......
透明导电氧化铟锡(ITO)薄膜可应用于nip 硅基薄膜太阳电池前电极(顶电极),低温制备ITO 薄膜对于nip 太阳电池尤其重要.但是,低温制......
触屏(Touch Panel,TP)广泛应用于智能手机、Pad、mini PC等便携式智能视窗,触控面板传感器(sensor)是触屏实现人机互动的关键原件......
采用电子束蒸发技术在玻璃衬底上制备了ITO薄膜，通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)以及原子力显微镜(AFM)等方法对薄膜进行了测试......
采用超声波喷涂CVD工艺在石英和硅片衬底上沉积出不同择优晶化的ITO(掺Sn的InO)薄膜.从300℃到500℃,选择衬底温度,可获得晶面(400......
本文通过改进设备用电子束蒸发在衬底温度为100℃、氧分压为5×10-2Pa工艺条件下制备ITO薄膜,并使用台阶仪、分光光度计、XRD等测......
本文是一篇综述性报告,对ITO透明导电薄膜的电导与掺杂机理、制备方法、性能检测、应用领域及发展前景作了简要的评述.ITO薄膜的导......
飞秒激光具有超快、超强的特点。飞秒激光烧蚀固体材料显示出了热效应小、加工精度高、没有明显材料选择性等优势,目前飞秒激光加......
在极地环境(如南极Dome A)中的光学系统，氧化铟锡(ITO)薄膜加热除霜有突出的优势。简述了ITO 薄膜除霜原理，指出了目前采用的直流电......
通过分光椭偏测量技术、并采用Drude和Tauc-Lorentz复合模型，研究了铟锡氧（ITO）薄膜在不同基底温度和退火过程中光学介电函数的变化。......
采用准分子激光微加工技术加工ITO透明电极，分析了准分了激光对玻璃和ITO薄膜的不同刻蚀阈值。借助高倍显微镜和三维形貌仪，讨论了准......
本文采用真空瞬时蒸镀加氧化热处理方法在玻璃和硅衬底上生长出ＩＴＯ）铟锡氧化物薄膜。电阻率～１０￣（－２）Ωｃｍ，可见光区几乎透明，透射率达９４％（６３２８Ａ单色光源）。采用......
用真空反应蒸发技术在有机薄膜衬底上制备出ITO透明导电薄膜 ,对薄膜的低温制备 (80～ 2 4 0℃ )、结构和光电特性进行了研究。制备......
采用反应溅射法制备了ITO透明导电薄膜材料,薄膜电阻率为2.59×10-4Ω·cm,可见光透过率可达90%;通过优化光刻工艺条件,选择合适的......
奈米銀線(silver nanowire,AgNW)薄膜本身材質為金屬,具有極佳的導電度,若搭配上不同條件的PVA分散劑及介面活性劑(surface ac......
透镜作为光学系统的基本元件之一,它在光学仪器的光路传播过程中扮演着举足轻重的角色。从与我们日常生活息息相关的手机电脑屏幕......
目前,氧化铟锡(ITO)薄膜应用越来越广泛,在显示器、太阳能电池等高科技领域有着不可取代的地位。我国的铟资源储量丰富,且生产工艺......
晶体硅/非晶硅异质结(HAC)太阳电池因高开路电压(VOC)和工艺步骤少等优势,在高效太阳电池中备受关注。非晶硅(a-Si:H)钝化层为HAC......
伴随着液晶显示的发展，用于透明电极的锢锡氧化物（ITO）薄膜的需要量急剧增加．目前，世界上的发达国家如日本、美国、法国等国将一半左右......
本文主要介绍磁控反应溅射制备大面积 ＩＴＯ薄膜（掺锡氧化铟透明导电薄膜）的导电原理、成膜过程、工艺参数的选择以及不同工艺参数对产品......
采用铟锡合金靶 (铟 锡 ,90 - 10 ) ,通过直流反应磁控溅射在玻璃基片上制备出ITO薄膜 ,并在大气环境下高温退火处理。研究了退火......
采用射频磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备ITO薄膜,结合薄膜面电阻和微观结构,采用红外、紫外光谱特征分析薄膜的导电机理。结果......
铟锡氧化物(ITO)薄膜是一种光电性能优良的二元透明导电氧化物(TCO)薄膜,随着其在应用领域的不断拓展,其各项性能需要进一步提升。......
通过隔热、节能实验 ,深入分析了ITO薄膜用于汽车前挡风玻璃的可能性 .结果表明 ,ITO薄膜应用于汽车前挡风玻璃 ,既能保证超过 80 ......
利用电子束蒸发技术在玻璃衬底上沉积了Ta掺杂ITO(ITO∶Ta)薄膜,对比研究了在不同退火温度下ITO∶Ta和ITO薄膜表面形貌、方阻、载......
为获得高性能的ITO靶材，本文采用XRD、XPS、SEM等表征手段系统探讨了ITO靶材中低价In1+、an2+离子存在对ITO靶材、ITO薄膜性能......
本试验采用磁控溅射法制备了氧化铟锡薄膜,本文通过试验研究了温度对ITO薄膜导电性能的影响,发现了ITO薄膜的导电性能在温度及作用......
透明电极的制作是LED管芯制作过程的关键技术,而由于紫外LED在其不同波段范围对可见光和紫外辐射的透过和吸收作用不同,其透明电极......
采用直流磁控溅射法在玻璃基板上制备ITO薄膜,研究了溅射功率、溅射时间、溅射气压等工艺条件对ITO薄膜的方阻和透过率的影响.并在......
本文中采用直流磁控溅射系统制备ITO薄膜,并对比了不同制备温度和退火温度对ITO薄膜的电阻率、透过率、结构等方面的影响,并将其应......
采用电子束蒸发镀膜方法在K9玻璃基底上分别镀制了ITO/SiO2/ITO,ITO/Ti2O3/ITO和ITO/MgF2/ITO结构的多层薄膜,用四探针方块电阻仪......
本文采用了一种非真空法制备ITO 薄膜。将In-Sn 合金颗粒制备成为墨水，采用旋涂，涂覆等方法制备成预置膜，再退火烧结形成ITO 薄膜。通......
本文从ITD薄膜的电镜照片、XRD分析出发，构造了该材料的平衡及非平衡能带结构简图。用克龙尼克.潘纳模型给出了带尾态分布。通过测......
将直径为1.5 μm的透明球形微粒(SiO2),通过自组装的方式在ITO玻璃上形成单层分布,采用KrF准分子激光(λ =248 nm)进行单脉冲辐照.......
,Effects of Substrate Temperature and Vacuum Annealing on Properties of ITO Films Prepared by Radio-
Indium tin oxide (ITO) films were prepared by rf magnetron sputtering under two conditions: (i) at substrate temperature......
